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Two-Photon Polymerization

TPP 双光子聚合成型

纳米级精度,适合光学与超精密结构。

3D 打印制造示意

工艺说明

TPP(双光子聚合)可在极小尺度实现极高分辨率,适用于光学、微纳器件等前沿试制场景。

核心优势

  • 极高分辨率潜力
  • 适合复杂三维微结构

优劣与考量

优势需考量
纳米级特征成本高、尺寸极小

典型应用场景

  • 光学微结构、自由曲面微透镜阵列、超材料样件等纳米级精度需求。
  • 极小尺度三维复杂结构,PuSL 仍不足以满足特征尺寸时。
  • 高校与研究所前沿课题的概念验证件。

设计要点(DFM)

  • 设计需与工艺窗口逐项对齐,任意超窗口特征可能导致无法打印或良率极低。
  • 支撑与后处理对微结构影响极大,避免脆弱悬臂无支撑延伸。
  • 件尺寸极小,装配与检测方案需一并规划。

与其他工艺的关系

相对 PuSL:TPP 分辨率潜力更高,适合光学与极端微纳结构,单价与周期通常显著高于常规光固化。相对半导体工艺:TPP 更适合三维自由形状原型,不等同于晶圆级量产。以个案评估与报价为准。

典型材料

以下为该工艺在配置器中的部分代表牌号;完整列表以即时报价中的可选材料为准。

IP-Dip-TPP 纳米
前往配置器选择材料并报价 →

表面处理与后处理

  • 工艺窗口窄,设计需与工程深度对齐。

规格与交期(参考)

下表为常见工单范围内的示例性描述,具体数值随设备、材料档与件型变化;下单前请以即时报价与工程反馈为准。

典型交期视复杂度个案评估

上述为常见范围,具体以即时报价与订单确认为准。

案例参考(脱敏示意)

以下为类型化叙述,不代表对特定客户的承诺;交付、检测与商务条件以订单确认为准。

光学研发(脱敏)
背景

微透镜阵列需纳米级轮廓验证,传统加工难以迭代。

做法

TPP 小阵列试片 + 光学检测对比仿真。

结果

确定可制造设计边界后再考虑复制工艺。

微纳器件(脱敏)
背景

三维光子晶体结构需实物验证带隙特性。

做法

双光子聚合纳米树脂,极小批量多版本对照。

结果

论文/专利与后续 funding 阶段的实物依据。

报价与帮助

获取本工艺报价的步骤

  1. 上传 STEP/STL 等模型,选择「3D 打印」及本子工艺。
  2. 在配置器中筛选材料与数量,查看即时价格与交期区间。
  3. 补充图纸要求、表面与认证需求(如有),提交订单前可保存草稿。
  4. 订单确认后在线跟踪进度;复杂件可能需工程审核,以站内通知为准。

常见问题

TPP 与 PuSL 如何选?
TPP 面向更极端的微纳尺度;一般微米级可先评估 PuSL。

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